GV10x 順流等離子清洗系統(tǒng)去除碳?xì)湮廴镜哪芰κ且粋€(gè)巨大突破，超越了使用冷卻捕捉、氮?dú)獯祲m等緩和污染的傳統(tǒng)方法和其它等離子清洗機(jī)。GV10x，以其擴(kuò)展的功率和壓力范圍（5 至 100 瓦 和2 至 <0.005 托） 代表了SEMs和其他真空系統(tǒng)中除碳的經(jīng)典轉(zhuǎn)移。
原子氧和氫可以將表面碳轉(zhuǎn)換成氣相分子然后被泵出到腔體外，而不僅是被固定和捕獲在表面，從而消除污染。SEM腔中低的碳含量使樣品假象比如聚合物沉積得到最小化。
Negative [or positive] charging scan squares & charging artifacts cause critical measurement and observational errors removed and prevented - Courtesy of Infineon on LEO 1550
由于各個(gè)儀器的清潔周期不同，可以通過(guò)在不同的儀器之間更換GV10x 源將GV10x 應(yīng)用在幾個(gè)實(shí)驗(yàn)室工具上。 在GV10x源和儀器真空腔之間放置一個(gè)隔離閥，如S-4700 FESEM所示，就可以非常簡(jiǎn)易的重新安置GV10x。
隨著納米科學(xué)的進(jìn)步，電子束聚焦的更好、電子束能量降低、前驅(qū)氣體的使用增加，使得高分辨率日益依賴(lài)于將碳污染控制在較低水平。通過(guò)遠(yuǎn)程或順流等離子工藝消除污染和去污染能夠迅速、簡(jiǎn)便和有效地完成這樣的任務(wù)。與普通的“等離子清洗機(jī)“中的動(dòng)力學(xué)濺射、刻蝕清潔不一樣， 順流等離子工藝是一個(gè)柔和的化學(xué)刻蝕。這個(gè)工藝已經(jīng)革新了在真空腔體中消除碳分子和碳?xì)浠衔锏姆绞健?/span>
GV10x DS Asher以較高的原子氧和氫濃度和更少的時(shí)間就可以達(dá)到同樣精妙的去除污染的效果，因此只需很短的時(shí)間就可以得到全新清潔的腔體，非常適合大尺寸的腔體和重度污染的表面。客戶(hù)聲稱(chēng)，使用GV10x可以使整個(gè)大型腔體的碳?xì)渌降玫礁佑行Ш途鶆虻目刂疲恍枰F(xiàn)存方法的十分之一的時(shí)間，同時(shí)具有更加好的均勻性。
